徠卡 EM ACE 200 低真空鍍膜機

為SEM和TEM分析生產(chǎn)同質(zhì)和導(dǎo)電的金屬或碳涂層，之前從未有過比與Leica EM ACE200涂層系統(tǒng)更方便的設(shè)備了。

配置為濺射鍍膜機或碳絲蒸發(fā)鍍膜機后，可以在全自動化系統(tǒng)中獲得可重復(fù)的結(jié)果，實現(xiàn)了一臺EM ACE200具有噴金儀，噴碳儀，蒸鍍儀三種功能。如果您的分析需要這兩種方法，徠卡顯微系統(tǒng)在一臺儀器中提供可互換機頭的組合儀表。

各個選項，如石英晶體測量、行星旋轉(zhuǎn)、輝光放電和可交換屏蔽共同構(gòu)成這臺低真空鍍膜機。

徠卡 EM ACE 200 低真空鍍膜機主要特點

理想重現(xiàn)的結(jié)果

運行自動化的進程，并協(xié)助參數(shù)設(shè)置。

小巧緊湊

設(shè)計緊湊，占地面積小節(jié)省了實驗室空間。

容易清洗

具備可拆卸門、卷簾、內(nèi)部屏蔽、光源、載物臺。

操作簡便

直觀的觸摸屏和一鍵式操作。

Leica EM ACE200是一款高品質(zhì)臺式鍍膜儀，用來制備電子顯微鏡所需的均勻的金屬導(dǎo)電膜或碳膜。 這款自動化設(shè)備既可以配置成濺射鍍膜儀又可以配置 成碳絲蒸發(fā)鍍膜儀?；蛘?，根據(jù)需要，Leica EM ACE200 可以在一臺設(shè)備上裝配可調(diào)換鍍膜源，實現(xiàn)兩種鍍膜 方式。

另外，可選配的功能有：

› 石英片膜厚監(jiān)控- 用于制備可重復(fù)性鍍膜

› 行星旋轉(zhuǎn)樣品臺-用于對裂紋型樣品噴鍍均勻鍍膜

› 輝光放電功能-使TEM網(wǎng)格親水化